[发明专利]光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置在审

专利信息
申请号: 201810136489.3 申请日: 2013-06-08
公开(公告)号: CN108196323A 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 品川雅;井上龙一 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B1/12 分类号: G02B1/12;G02B5/30
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供光学薄膜的活性化处理方法和制造方法、光学薄膜以及图像显示装置,所述光学薄膜的活性化处理方法能够在层叠了的光学薄膜中兼顾提高其粘接性和防止产生外观缺陷。在沿着辊输送光学薄膜、并从辊的相反侧进行光学薄膜的活性化处理的方法中,边冷却辊边进行活性化处理。作为活性化处理,优选电晕放电处理、等离子体处理以及辉光放电处理中的至少一种处理,作为光学薄膜,优选为偏振片和透明保护薄膜中的至少一种光学薄膜。
搜索关键词: 光学薄膜 活性化处理 图像显示装置 优选 等离子体处理 透明保护薄膜 电晕放电 辉光放电 外观缺陷 冷却辊 偏振片 相反侧 粘接性 制造
【主权项】:
1.一种偏光薄膜的制造方法,其特征在于,其为制造在偏振片的至少一个面上夹着活性能量射线固化型粘接剂层设置有透明保护薄膜的偏光薄膜的方法,所述制造方法包括如下工序:活性化处理工序,对所述偏振片实施下述的活性化处理方法:沿着辊输送偏振片、并从所述辊的相反侧进行偏振片的活性化处理,其中,边冷却所述辊边进行活性化处理,所述偏振片为厚度为1~7μm的薄型偏振片,所述薄型偏振片的水分率为1~5%,所述活性化处理为电晕放电处理;涂覆工序,在所述偏振片的进行过活性化处理的面上涂覆活性能量射线固化型粘接剂而层叠活性能量射线固化型粘接剂层;层叠工序,使所述偏振片与所述透明保护薄膜夹着所述活性能量射线固化型粘接剂层贴合。
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