[发明专利]一种低真空条件下的质谱离子源装置在审
| 申请号： | 201810139214.5 | 申请日： | 2018-02-11 |
| 公开（公告）号： | CN108400080A | 公开（公告）日： | 2018-08-14 |
| 发明（设计）人： | 徐福兴;丁航宇;唐科奇;方向;周鸣飞;丁传凡 | 申请（专利权）人： | 复旦大学 |
| 主分类号： | H01J49/10 | 分类号： | H01J49/10;H01J49/24;H01J49/26 |
| 代理公司： | 上海正旦专利代理有限公司 31200 | 代理人： | 陆飞;陆尤 |
| 地址： | 200433 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明属于质谱分析测试技术领域，具体涉为一种低真空条件下的质谱离子源装置。该装置包括：一真空系统，以及设置于该真空系统中的离子源、样品平台、离子传输系统、离子质量分析器、离子探测器；该真空系统可以实现多级真空差分功能；由离子源产生的离子撞击到待测样品表面，待测样品在离子碰撞后发生溅射和脱附产生气相样品离子，从而实现待测样品离子化过程；产生的待测样品离子通过离子传输系统进入到离子质量分析器中；真空系统的使用可以提高离子产生效率，降低离子传输过程中的损失，从而提高离子传输效率和整个系统的检测灵敏度。 | ||
| 搜索关键词： | 待测样品 真空系统 离子质量分析器 质谱离子源装置 离子传输系统 低真空条件 离子源 离子 测试技术领域 离子产生效率 离子传输效率 检测灵敏度 离子化过程 离子探测器 离子传输 离子碰撞 离子撞击 气相样品 样品平台 质谱分析 溅射 脱附 | ||
【主权项】：
1.一种低真空条件下的质谱离子源装置，其特征在于，包括：一真空系统，以及设置于该真空系统中的离子源、样品平台、离子传输系统、离子质量分析器、离子探测器；该真空系统可以实现多级真空差分功能；所述离子源用于产生离子；所述样品平台用于放置待测样品，样品平台可以进行三维空间调节；离子源与样品平台成一个角度，该角度为0~90度；所述离子传输系统用于传输离子源所产生的离子，将其送入离子探测器、离子质量分析器；其中，由离子源产生的离子撞击到待测样品表面，待测样品在离子碰撞后发生溅射和脱附产生气相样品离子，从而实现待测样品离子化过程；产生的待测样品离子通过离子传输系统进入到离子质量分析器中；真空系统的使用可以提高离子产生效率，降低离子传输过程中的损失，从而提高离子传输效率和整个系统的检测灵敏度。
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