[发明专利]处理气体中污染物的等离子体设备有效

专利信息
申请号: 201810143657.1 申请日: 2018-02-09
公开(公告)号: CN108079759B 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 王雨化 申请(专利权)人: 上海睿筑环境科技有限公司
主分类号: B01D53/32 分类号: B01D53/32;B01D46/00;B01D47/00
代理公司: 上海慧晗知识产权代理事务所(普通合伙) 31343 代理人: 苏蕾
地址: 200240 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种处理气体中污染物的等离子体设备,包括:处理腔以及若干电极,若干电极分布式地固定于处理腔的内壁上,用于产生等离子体以对流经所述处理腔的待处理的气体进行等离子体处理以降解气体中的污染物;其中,每个电极均包括基底、柱状结构阵列以及针状结构阵列,柱状结构阵列形成在基底上,柱状结构阵列包括若干柱状结构;针状结构阵列形成在若干柱状结构外的基底上以及若干柱状结构的底部,针状结构阵列包括若干针状结构。通过在处理腔内设置分布式的电极,利用分布式的电极来取代现有的一体式电极,提高了电极周围的电场中产生等离子体的效率,进而提高了等离子体处理气体中污染物的效率。
搜索关键词: 处理 气体 污染物 等离子体 设备
【主权项】:
1.一种处理气体中污染物的等离子体设备,其特征在于,包括:处理腔,具有气流入口端及气流出口端,待处理的气体从气流入口端进入,从气流出口端流出;若干电极,分布式地固定于所述处理腔的内壁,所述若干电极用于产生等离子体以对流经所述处理腔的待处理的气体进行等离子体处理以降解气体中的污染物;其中,每个电极均包括基底、柱状结构阵列以及针状结构阵列,所述柱状结构阵列形成在所述基底上,所述柱状结构阵列包括若干柱状结构;所述针状结构阵列形成在所述若干柱状结构外的所述基底上以及所述若干柱状结构的底部,所述针状结构阵列包括若干针状结构。
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