[发明专利]升压式电光调Q大能量2μm纳秒脉冲激光器及制造方法有效

专利信息
申请号: 201810146807.4 申请日: 2018-02-12
公开(公告)号: CN108448377B 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 郭磊;杨克建;赵圣之 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01S3/115 分类号: H01S3/115;H01S3/081
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 黄海丽
地址: 250100 山东省济南*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明公开了一种升压式电光调Q大能量2μm纳秒脉冲激光器及制造方法,所述激光器包括泵浦源、耦合透镜、凹面输入镜、Tm:LuAG激光晶体、凹面全反镜、平面全反镜、电光晶体和输出镜;所述泵浦源发出的激光依次经过耦合透镜和凹面输入镜入射到Tm:LuAG激光晶体,经过Tm:LuAG激光晶体的增益激光由凹面全反镜反射到达平面全反镜,然后被反射并原路返回,到达凹面输入镜后反射,经过电光晶体到达输出镜;所述电光调制电源为电光晶体提供升压式调制信号。本发明能够获得10.6mJ,85ns的2025nm激光输出。
搜索关键词: 电光晶体 激光晶体 升压式 输入镜 凹面 反射 纳秒脉冲激光器 凹面全反镜 平面全反镜 激光 耦合透镜 电光调Q 泵浦源 大能量 输出镜 电光调制 调制信号 原路返回 激光器 入射 制造 电源 输出
【主权项】:
1.一种基于升压式电光调Q的2μm波段大能量纳秒脉冲激光器,其特征在于,包括泵浦源、耦合透镜、凹面输入镜、Tm:LuAG激光晶体、凹面全反镜、平面全反镜、电光晶体、平面输出镜和电光调制电源;所述泵浦源发出的激光依次经过耦合透镜和凹面输入镜入射到Tm:LuAG激光晶体,经过Tm:LuAG激光晶体的增益激光由凹面全反镜反射到达平面全反镜,然后被反射并原路返回,到达凹面输入镜后反射,经过电光晶体到达平面输出镜;所述电光调制电源为电光晶体提供升压式调制信号;Tm:LuAG激光晶体规格为4mm*4mm*8mm,Tm3+掺杂浓度为6at.%;所述泵浦源为温度15到30度可调的连续运转的793nm激光二极管,通过调整温度,将输出波长设定为789nm,最大输出功率30W;所述凹面输入镜到Tm:LuAG激光晶体的距离为35mm,Tm:LuAG激光晶体长8mm,Tm:LuAG激光晶体到凹面全反镜距离30mm,凹面全反镜到平面全反镜距离60mm,凹面输入镜到平面输出镜距离150mm;平面输出镜透过率为20%;所述电光晶体和平面输出镜之间还设有1/4波片;还包括起偏器,所述凹面全反镜反射的光束经起偏器到达平面全反镜。
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