[发明专利]压电传感器制造方法及利用其的压电传感器有效

专利信息
申请号: 201810149813.5 申请日: 2018-02-13
公开(公告)号: CN108461622B 公开(公告)日: 2021-09-07
发明(设计)人: 房昌爀 申请(专利权)人: (株)凯希思
主分类号: H01L41/047 分类号: H01L41/047
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 陈英俊;姜虎
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种压电传感器制造方法,本发明的压电传感器制造方法包括如下步骤:刻蚀半导体基板而形成包含多个凹槽的传感器阵列图案形式的模具;将压电材料注入所述凹槽并烧结;刻蚀半导体基板,以使压电材料突出,由此,形成传感器阵列图案形式的压电杆,并以在图案的一侧面突出第一区域的方式进行刻蚀;将绝缘材料填充至半导体基板而形成绝缘层;对绝缘层进行平坦化处理,直至压电材料露出时为止;在压电材料及绝缘层的第一面形成第一电极;在形成有第一电极的半导体基板上粘结工艺基板;对所述半导体基板的第二面进行平坦化处理,直至压电材料露出时为止;在压电材料的第二面形成第二电极;及刻蚀所述第一区域而露出所述第一电极。
搜索关键词: 压电 传感器 制造 方法 利用
【主权项】:
1.一种压电传感器制造方法,其特征在于,包括如下步骤:刻蚀半导体基板而形成包含多个凹槽的传感器阵列图案形式的模具;将压电材料注入所述凹槽并烧结;刻蚀半导体基板,以使所述压电材料突出,由此,形成传感器阵列图案形式的压电杆,并以在所述图案的一侧面突出第一区域的方式进行刻蚀;将绝缘材料填充至所述半导体基板而形成绝缘层;对绝缘层进行平坦化处理,直至所述压电材料露出时为止;在所述压电材料及绝缘层的第一面形成第一电极;在形成有所述第一电极的半导体基板上粘结工艺基板;对所述半导体基板的第二面进行平坦化处理,直至所述压电材料露出时为止;在所述压电材料的第二面形成第二电极;及刻蚀所述第一区域而露出所述第一电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于(株)凯希思,未经(株)凯希思许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810149813.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top