[发明专利]多带电粒子束描绘装置及其调整方法

摘要

本发明的一个方式涉及的多带电粒子束描绘装置具备：射出部，射出带电粒子束；成形孔径阵列，形成有多个开口部，带电粒子束穿过多个开口部，由此形成多束；消隐孔径阵列，配置有多个消隐器，该消隐器进行多束中的各自相对应的射束的消隐偏转；限制孔径部件，屏蔽被多个消隐器偏转成射束截止状态的各射束；载物台，对多束照射的基板进行载置；校正部，配置在射出部和成形孔径阵列之间，具有孔径、设置于该孔径并检测带电粒子的检测器以及调整带电粒子束向该孔径的入射角的校正线圈；特征量计算部，根据基于检测器的检测值的校正扫描图像，计算表示带电粒子束向孔径的入射角的垂直程度的特征量；以及线圈控制部，基于特征量，控制校正线圈的励磁值。

主权项

1.一种多带电粒子束描绘装置，其特征在于，具备：射出部，射出带电粒子束；成形孔径阵列，形成有多个开口部，所述带电粒子束穿过所述多个开口部，由此形成多束；消隐孔径阵列，配置有多个消隐器，该消隐器进行所述多束中的各自相对应的射束的消隐偏转；载物台，对所述多束所照射的基板进行载置；校正部，配置在所述射出部和所述成形孔径阵列之间，具有孔径、设置于该孔径并检测带电粒子的检测器、以及调整所述带电粒子束向该孔径的入射角的校正线圈；特征量计算部，根据基于所述检测器的检测值的校正扫描图像，计算表示所述带电粒子束向所述孔径的入射角的垂直程度的特征量；以及线圈控制部，基于所述特征量，控制所述校正线圈的励磁值。