[发明专利]一种超柔半透明导电薄膜的制备方法有效
申请号: | 201810156131.7 | 申请日: | 2018-02-24 |
公开(公告)号: | CN108468036B | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | 郭新立;陈忠涛;刘园园;张伟杰;赵丽;刘闯;殷亮亮;金开;张彤 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | C23C16/01 | 分类号: | C23C16/01;C23C16/26;C23C16/513;C23C16/56;H01B5/14;H01B13/00 |
代理公司: | 32204 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) | 代理人: | 柏尚春 |
地址: | 210033 江苏省南京*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明提供一种超柔半透明复合导电薄膜的制备方法,是一种等离子体增强化学气相沉积法(PECVD)法在铜箔表面快速生长GNWs,并与乙烯‑乙酸乙烯酯聚合物(EVA)复合的制备方法。主要包括以下工艺步骤:1.清洗铜箔并干燥;2.调控PECVD工艺参数;3.一定温度、射频功率(RF)和气压下在铜箔表面生长GNWs。4.在GNWs/铜箔表面覆盖一层EVA溶液,并在80℃下烘干;5.自然冷却至室温后,撕下GNWs/EVA柔性半透明导电复合薄膜;6.重复使用铜箔生长GNWs。利用该工艺制备的GNWs/EVA柔性、半透明、导电薄膜在智能传感器、柔性触摸屏等领域具有一定的潜在应用。 | ||
搜索关键词: | 铜箔表面 半透明 制备 铜箔 等离子体增强化学气相沉积法 乙酸乙烯酯聚合物 半透明导电薄膜 导电复合薄膜 复合导电薄膜 柔性触摸屏 智能传感器 导电薄膜 工艺步骤 工艺制备 快速生长 射频功率 生长 烘干 撕下 气压 乙烯 清洗 复合 调控 覆盖 应用 | ||
【主权项】:
1.一种超柔半透明复合导电薄膜的制备方法,其特征在于该方法包括:/n步骤一.将干净的铜箔置于石英管中,通入载气,由室温加热到反应温度,之后通入碳源气体;/n步骤二.利用PECVD技术,调节总气压和射频电源功率,在铜箔表面生长石墨烯纳米墙GNWs;/n所述的PECVD技术包括:/n1)升温过程:升温阶段的开始温度为室温,升温速率为10-20℃/min,结束温度为650-850℃,氩气和氢气的流量分别为20-40sccm和5-20sccm;/n2)退火阶段的温度为650-850℃,时间为20-40min,氩气和氢气的流量分别为20-40sccm和5-20sccm;/n3)生长阶段的温度为650-850℃,时间为2-15min,氢气、甲烷的流量分别为5-20sccm和10-20sccm;/n4)降温过程为自然冷却至室温,氩气和氢气的流量分别为20-40sccm和5-20sccm;/n步骤三.在石墨烯纳米墙GNWs-铜箔表面旋涂乙烯-乙酸乙烯酯聚合物EVA-乙酸丁酯溶液,70-90℃干燥后,冷却至室温,将GNWs-EVA复合薄膜从铜箔表面撕下,即可得到超柔半透明导电复合薄膜。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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