[发明专利]一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液在审
| 申请号： | 201810156720.5 | 申请日： | 2018-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN108384548A | 公开（公告）日： | 2018-08-10 |
| 发明（设计）人： | 高小云;刘兵 | 申请（专利权）人： | 苏州晶瑞化学股份有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/08 | 分类号： | C09K13/08 |
| 代理公司： | 苏州国诚专利代理有限公司 32293 | 代理人： | 陈文爽 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液，按质量分数计包括以下组分：氢氟酸0.1％‑10％，氟化铵1％‑40％，缓释剂0.005％‑0.5％，渗透剂0.005％‑0.5％，纯水余量。本发明的一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液，对制程中氧化硅膜层具有高度选择性蚀刻，蚀刻速率可控，蚀刻后无台阶出现；蚀刻液对接触层ILD膜及GI膜层无蚀刻；通过引入缓冲剂，对多晶硅基材及玻璃基板蚀刻速率效率小于 |
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| 搜索关键词： | 蚀刻 蚀刻液 非金属氧化物 缓冲 多晶硅 渗透剂 缓冲剂 润湿 二氧化硅层 高度选择性 氧化硅膜层 玻璃基板 玻璃基材 纯水余量 对接触层 引入 氟化铵 过蚀刻 缓释剂 氢氟酸 基材 可控 膜层 微孔 制程 | ||
【主权项】：
1.一种非金属氧化物膜用缓冲蚀刻液，其特征在于：按质量分数计包括以下组分：![]()
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