[发明专利]一种TiZn合金膜及其制备方法和用途有效
| 申请号： | 201810156892.2 | 申请日： | 2018-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN108396290B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 闫兰琴;褚卫国 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/35;C22C18/00;C23C14/02;C23C14/58 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种TiZn合金膜及其制备方法和用途。所述TiZn合金膜包括纳米柱结构。所述TiZn合金膜的制备方法包括：在介质膜上制备所述TiZn合金膜，即诱导法制备所述合金膜。所述介质膜晶格常数某一方向与合金材料中某一材料一个方向上晶格常数相近。本发明还提供了一种以所述TiZn合金膜为原料制备得到的掺钛氧化锌膜，所述掺钛氧化锌膜的制备方法包括：将所述TiZn合金膜在氧化性气氛中加热退火，得到所述掺钛氧化锌膜。掺钛氧化锌膜用于光学应用。本发明制备TiZn合金膜的方法为纯物理方法，零污染、低成本、可重复，且可以灵活地调整TiZn合金膜中Ti和Zn的原子比例和纳米柱结构的大小及高度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 tizn 合金 及其 制备 方法 用途 | ||
【主权项】：
1.一种TiZn合金膜，其特征在于，所述TiZn合金膜包括纳米柱结构。
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