[发明专利]用于基材、特别是眼镜镜片的真空涂布的箱式涂布设备及其电加热装置有效
| 申请号： | 201810157168.1 | 申请日： | 2018-02-24 |
| 公开（公告）号： | CN108504995B | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 佛朗哥·莫雷尼;安东尼奥·柯瑞亚;T·蒂奥达托;G·狄波拉 | 申请（专利权）人： | 萨特隆股份公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28;C23C14/50 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 朱立鸣 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于基材的真空涂布的箱式涂布设备(10)包括真空室(12)，该真空室(12)包含用于蒸发涂布材料的蒸发源(14)和相对于蒸发源面对面设置的基材支架(16)，使得被蒸发源蒸发的涂布材料能够撞击在由所述基材支架保持的基材上。电加热装置(18)居中布置在真空室中，该电加热装置(18)适于在真空检查和清洁程序的情况下加热真空室。为了也适于在沉积过程之前从真空室移除，电加热装置设置有支座(20)，该支座(20)具有安装到底板(36)的多个支腿部分(34)，这些支腿部分的大小适于并布置在所述底板处，使得所述电加热装置可以放置在蒸发源的上方。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 基材 特别是 眼镜 镜片 真空 箱式 布设 及其 加热 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于基材、特别是眼镜镜片的真空涂布的箱式涂布设备(10)，所述箱式涂布设备(10)包括真空室(12)，所述真空室(12)包含用于蒸发涂布材料的蒸发源(14)和用于保持多个基材的基材支架(16)，所述基材支架(16)相对于所述蒸发源(14)面对面设置，使得被所述蒸发源(14)蒸发的涂布材料能够撞击在由所述基材支架(16)保持的基材上，其中，在所述真空室(12)中布置有电加热装置(18)，所述电加热装置(18)适于在真空检查和清洁程序的情况下加热所述真空室(12)，其特征在于，所述加热装置(18)设置有适于从所述真空室(12)移除的支座(20)，其中，所述支座(20)具有安装到所述支座(20)的底板(36)上的多个支腿部分(34)，所述支腿部分(34)的大小适于所述底板(36)且布置在所述底板(36)上，使得所述加热装置(18)能够放置在所述蒸发源(14)上方。
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