[发明专利]一种磁控溅射光学镀膜设备及镀膜方法有效
| 申请号： | 201810158677.6 | 申请日： | 2018-02-26 |
| 公开（公告）号： | CN108315704B | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 孙宝玉;陈晓东;杨威力;段永利 | 申请（专利权）人： | 沈阳中北真空技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 110168 辽宁*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁控溅射光学镀膜设备和镀膜方法，该设备包含真空镀膜室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，真空镀膜室为立式圆筒形结构，立式旋转鼓位于真空镀膜室内，绕垂直轴线旋转，立式旋转鼓中心设置有旋转密封箱，旋转密封箱内设置有膜厚测量仪表，旋转密封箱的上部连接有旋转轴，旋转密封箱内的气氛与真空镀膜室隔离。多组磁控溅射靶组件设置在立式旋转鼓外围的真空镀膜室的侧壁上。镀膜方法包括将需要镀膜的工件装卡到镀膜设备的立式旋转鼓的侧面，对镀膜设备抽真空；转动立式旋转鼓达到设定的转速；启动射频离子源；交替启动第一种材料的磁控靶靶和第二种材料的磁控靶，按工艺要求镀制膜层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 光学 镀膜 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种磁控溅射光学镀膜设备，包含真空镀膜室、磁控溅射靶组件、立式旋转鼓，其特征在于：真空镀膜室为立式圆筒形结构，上下两端设置有上盖板和下盖板，侧面有侧开门；立式旋转鼓位于真空镀膜室内，绕垂直轴线旋转，立式旋转鼓中心设置有旋转密封箱，旋转密封箱的上部连接有旋转轴，旋转轴通过轴承支撑在真空镀膜室的上盖板上；旋转轴中心有孔，孔内通有冷却水管；旋转密封箱内的气氛与真空镀膜室隔离，在旋转密封箱内设置有膜厚测量仪表；磁控溅射靶组件设置在立式旋转鼓外围的真空镀膜室的侧壁上，所述的磁控溅射靶组件为2组以上。
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