[发明专利]一种聚合物基功能薄膜及其制备方法有效
申请号: | 201810160814.X | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN108676182B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 钟海政;孟令海;王雷 | 申请(专利权)人: | 北京理工大学 |
主分类号: | C08J7/14 | 分类号: | C08J7/14;C08J5/18;C08L83/04;C08L33/12;C08L33/20;H01L31/055 |
代理公司: | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人: | 吴大建;方莉 |
地址: | 100081 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种聚合物基功能薄膜及其制备方法,所述功能薄膜包括至少一层聚合物薄膜,且聚合物薄膜中的至少一层为含有纳米空腔的聚合物薄膜。该聚合物基功能薄膜通过在聚合物溶液中添加不同几何结构的纳米牺牲模板,成膜后再选择性的去除纳米牺牲模板,从而在聚合物薄膜中形成纳米空腔结构,本发明提供的聚合物基功能薄膜可以灵活改变聚合物薄膜的有效折射率,实现与器件的匹配,进而改善应用器件元件的光电性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 聚合物 功能 薄膜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种聚合物基功能薄膜,所述功能薄膜包括至少一层聚合物薄膜,所述聚合物薄膜中的至少一层为含有纳米空腔的聚合物薄膜。
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