[发明专利]磁芯线圈及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810161459.8 申请日: 2018-02-27
公开(公告)号: CN108461273B 公开(公告)日: 2019-04-05
发明(设计)人: 阮勇;尤政;杨建中;盛文海 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: H01F41/04 分类号: H01F41/04;H01F41/12;H01F27/28;H01F27/24;H01F27/32
代理公司: 北京华进京联知识产权代理有限公司 11606 代理人: 王程
地址: 100084*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种磁芯线圈的制备方法,包括如下步骤:1)制备底层导线;2)制备第一铜立柱层和第一绝缘层,其中第一绝缘层由第一光刻胶直接固化形成;3)制备磁芯导电层;4)制备第二铜立柱层、第二绝缘层、磁芯;5)制备第三铜立柱层、第三绝缘层,其中第三绝缘层由第三光刻胶直接固化形成;6)制备上层导线。本发明提供的磁芯线圈的制造方法,将三维图像分割为相互独立相互联系的二维的层结构,通过将磁芯线圈划分为多个相互独立且相互联系的层结构,通过简单的分层制造能够获得结构复杂的磁芯线圈,不需后续的刻蚀工艺,适合低成本的三维磁感线圈的制作。
搜索关键词: 制备 绝缘层 磁芯线圈 铜立柱 层结构 光刻胶 磁芯 固化 磁感线圈 底层导线 分层制造 刻蚀工艺 三维图像 导电层 低成本 二维 三维 上层 分割 制作 制造
【主权项】:
1.一种磁芯线圈的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:1)制备底层导线;2)制备第一铜立柱层和第一绝缘层,其中第一绝缘层由第一光刻胶直接固化形成;3)制备磁芯导电层;4)制备第二铜立柱层、第二绝缘层和磁芯,其中,所述制备第二绝缘层、第二铜立柱层和磁芯的具体过程包括:通过光刻处理,旋涂第二光刻胶、曝光、显影,同时制备得到所述第二铜立柱层的图形和磁芯的图形,所述第二铜立柱层的位置与所述第一铜立柱层的位置重合,所述磁芯的位置与所述磁芯导电层的位置重合;通过电镀处理,在所述第二铜立柱层的图形上制备得到所述第二铜立柱层,在所述磁芯的图形上制备得到所述磁芯;通过固化处理使第二光刻胶固化,形成所述第二绝缘层;5)制备第三铜立柱层和第三绝缘层,其中第三绝缘层由第三光刻胶直接固化形成;6)制备上层导线。
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