[发明专利]含阵列内哑元的MRAM阵列有效

专利信息
申请号: 201810162281.9 申请日: 2018-02-27
公开(公告)号: CN110197836B 公开(公告)日: 2022-06-03
发明(设计)人: 戴瑾 申请(专利权)人: 上海磁宇信息科技有限公司
主分类号: H01L27/22 分类号: H01L27/22;H01L23/50
代理公司: 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 代理人: 于晓菁
地址: 201800 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种含阵列内哑元的MRAM阵列,包括:源线与位线垂直布局,其中,所述MRAM阵列分为多个子阵列,每一所述子阵列有一条公共源线和所有的源线连接,并和位线平行,所述公共源线占据一列的空间。本发明较之于现有技术,有效解决了现有技术中SL另外走线导致的影响蚀刻质量的问题,通过将一位线作为公共的源线,并且对应的通过将磁性隧道结制作成哑元的结构,通过哑元连接有源区,进而连接到衬底,巧妙的改造了磁性隧道结,在不影响蚀刻质量的基础上降低了成本,本发明布局合理。
搜索关键词: 阵列 内哑元 mram
【主权项】:
1.一种含阵列内哑元的MRAM阵列,包括:源线与位线垂直布局,其特征在于,所述MRAM分为多个子阵列,每一所述子阵列有一条公共源线和所有的源线连接,并和位线平行,所述公共源线占据一列的空间。
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