[发明专利]曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法有效
| 申请号： | 201810163638.5 | 申请日： | 2018-02-27 |
| 公开（公告）号： | CN108535966B | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 松尾友宏;福本靖博;大木孝文;浅井正也;春本将彦;田中裕二;中山知佐世 | 申请（专利权）人： | 株式会社斯库林集团 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供曝光装置、基板处理装置、曝光方法及基板处理方法。通过吸引装置将收纳有基板的处理室内的环境气体排出。在处理室内的氧浓度下降至预先设定的曝光开始浓度的时刻，通过光源部开始向基板照射真空紫外线。在向基板照射真空紫外线的照射期间，由照度计接收一部分真空紫外线，并测量接收到的真空紫外线的照度。基于测量的照度计算基板的曝光量，在曝光量上升至预先设定的设定曝光量的时刻，停止向基板照射真空紫外线。曝光开始浓度被预先设定为，高于1％且低于大气中的氧浓度，使得通过真空紫外线的照射而从氧原子生成的臭氧不会损伤基板的被处理面的膜。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 处理 方法 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，其中，具有：处理室，收纳在被处理面上形成有膜的基板；光源部，能够向收纳在所述处理室的基板照射真空紫外线；排气部，排出所述处理室内的环境气体；氧浓度计，测量所述处理室内的氧浓度；照度计，在从所述光源部向基板照射真空紫外线的照射期间，接收一部分真空紫外线，并测量接收的真空紫外线的照度；曝光量计算部，基于由所述照度计测量的照度，计算基板的曝光量；以及光源控制部，以在由所述氧浓度计测量的氧浓度下降至预先设定的曝光开始浓度的时刻，通过所述光源部开始向基板照射真空紫外线，在由所述曝光量计算部计算出的曝光量上升至预先设定的设定曝光量的时刻，停止通过所述光源部向基板照射真空紫外线的方式，控制所述光源部，所述曝光开始浓度预先被设定为，高于1％且低于大气中的氧浓度，通过真空紫外线的照射而从氧原子生成的臭氧不会损伤基板的被处理面的膜。
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