[发明专利]一种提高辐射探测性能的方法、对应的辐射探测器及制备有效
申请号: | 201810163874.7 | 申请日: | 2018-02-27 |
公开(公告)号: | CN108365031B | 公开(公告)日: | 2019-07-23 |
发明(设计)人: | 唐江;牛广达;潘伟程;杨波;巫皓迪;尹力骁 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/032 | 分类号: | H01L31/032;H01L31/115;H01L31/18 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 许恒恒;李智 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明公开了一种提高辐射探测性能的方法、对应的辐射探测器及制备,其中提高辐射探测性能的方法是向辐射探测器的辐射探测活性层中掺杂离子迁移惰性材料,由此提高该辐射探测活性层的辐射探测性能;离子迁移惰性材料优选为铋氧溴、氮化硼、单壁碳管中的至少一种;辐射探测活性层采用全无机钙钛矿,优选采用Cs2AgBiBr6。本发明通过对关键掺杂物(如掺杂物的具体种类及掺杂量)、相应辐射探测器制备方法的整体工艺流程设计及关键步骤所使用的参数条件(如退火工艺所采用的温度及时间等)进行改进,能够有效解决现有技术存在的工艺复杂、灵敏度低、环境污染和稳定性差等问题,以及灵敏度、工作偏压、稳定性和环境污染等指标不能兼顾问题。 | ||
搜索关键词: | 辐射探测 辐射探测器 活性层 制备 惰性材料 掺杂物 灵敏度 优选 工艺流程设计 无机钙钛矿 参数条件 掺杂离子 单壁碳管 工作偏压 关键步骤 离子迁移 退火工艺 有效解决 掺杂量 氮化硼 氧溴 迁移 改进 | ||
【主权项】:
1.一种提高辐射探测性能的方法,其特征在于,该方法是向辐射探测器的辐射探测活性层中掺杂离子迁移惰性材料,由此提高该辐射探测活性层的辐射探测性能;所述离子迁移惰性材料为铋氧溴(BiOBr)、氮化硼(BN)、单壁碳管中的至少一种;所述辐射探测活性层采用全无机钙钛矿。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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