[发明专利]减反射结构及其制作方法、显示装置有效
| 申请号： | 201810168255.7 | 申请日： | 2018-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN108227049B | 公开（公告）日： | 2019-08-23 |
| 发明（设计）人： | 赵伟利 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/118 | 分类号： | G02B1/118 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 许静;张博 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种减反射结构及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，减反射结构包括：透光基底；位于所述透光基底上的吸光图形，所述吸光图形限定出多个透光区域；位于所述透光区域内的多个间隔排布的负折射率图形，所述负折射率图形与所述吸光图形位于所述透光基底的同一侧表面，预设角度范围内的光线照射到所述负折射率图形上能够被折射至被所述吸光图形。本发明的技术方案能够减少观看显示装置时环境光的反射。 | ||
| 搜索关键词： | 吸光 负折射率 显示装置 减反射 透光基 透光区域 光线照射 间隔排布 图形限定 环境光 预设 反射 制作 折射 观看 | ||
【主权项】：
1.一种减反射结构，其特征在于，包括：透光基底；位于所述透光基底上的吸光图形，所述吸光图形限定出多个透光区域；位于所述透光区域内的多个间隔排布的负折射率图形，所述负折射率图形与所述吸光图形位于所述透光基底的同一侧表面，预设角度范围内的光线照射到所述负折射率图形上能够被折射至被所述吸光图形；其中，相邻所述负折射率图形在垂直于自身延伸方向的第一方向上的间距为S，所述负折射率图形在第一方向上的宽度为W，W大于等于S。
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