[发明专利]提高图像过曝区域相位测量精度的双四步相移法

摘要

本发明提供了一种提高图像过曝区域相位测量精度的双四步相移法，分两次通过四步相移法求得正弦条纹图像上像素点(x，y)的相位值和，第二次四步相移中每一步的初始相位比第一次四步相移的多π/4；根据两次四步相移求得的相位值计算最终的相位值，若第一次四步相移时过曝而第二次未过曝，则取；若第一次四步相移时未过曝而第二次过曝，则取；若两次均过曝或均未过曝，则取两个相位的平均值。本发明能够有效地提高图像过曝区域的相位测量精度，减少计算开销。

主权项

1.一种提高图像过曝区域相位测量精度的双四步相移法，其特征在于包括下述步骤：步骤一、进行第一次四步相移，得到初始相位分别为0、π/2、π、3π/2时的四幅正弦条纹图像，四幅正弦条纹图像在(x，y)处的灰度值分别如下：求解第一次四步相移中像素点(x，y)处的相位值步骤二、进行第二次四步相移，第二次四步相移中每一步的初始相位均比第一次四步相移的相位多π/4，采集的四幅正弦条纹图像的灰度值如下：求得第二次四步相移中像素点(x，y)处的相位值步骤三、根据两次四步相移求得的相位值，根据两次四步相移求得的相位值计算最终的相位值若像素点(x，y)在第一次四步相移时出现过曝，在第二次四步相移时未出现过曝，则取；若在第一次四步相移时未出现过曝，在第二次四步相移时出现过曝，则取若两次四步相移时均出现过曝或均未出现过曝，则取和的平均值。