[发明专利]光阻剂涂布工艺、润湿溶剂筛选方法及润湿溶剂在审
| 申请号： | 201810173987.5 | 申请日： | 2018-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN108345176A | 公开（公告）日： | 2018-07-31 |
| 发明（设计）人： | 黄帅;吴明锋 | 申请（专利权）人： | 睿力集成电路有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市铸成律师事务所 11313 | 代理人： | 宋珊珊;王珺 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光阻剂的涂布工艺、润湿溶剂筛选方法及润湿溶剂，光阻剂的涂布工艺包括：提供晶圆；在待涂面滴定润湿溶剂，并旋涂润湿溶剂进行预湿以形成润湿层；在润湿层的表面旋涂光阻剂以形成光阻层；筛选方法包括：m种溶剂对m组晶圆进行涂布，且一种溶剂涂布一组晶圆形成润湿层，每组n个晶圆的润湿层均采用n种预设用量的光阻剂进行涂布，形成光阻层，以形成涂胶片，根据筛选条件对涂胶片进行筛选，以满足筛选条件且光阻剂的预设用量最少的涂胶片所涂布的溶剂作为润湿溶剂。本发明采用包括环己酮和/或环己酮衍生物的溶剂作为光阻剂涂布前的润湿溶剂可提高光阻剂涂布效果，减少涂布的光阻剂用量。 | ||
| 搜索关键词： | 润湿 光阻剂 溶剂 润湿层 晶圆 涂布工艺 胶片 溶剂筛选 筛选条件 光阻层 旋涂 预设 环己酮衍生物 筛选 溶剂涂布 涂布效果 环己酮 滴定 预湿 | ||
【主权项】：
1.一种光阻剂的涂布工艺，其特征在于，包括：提供待涂布的晶圆；在所述晶圆的待涂面滴定润湿溶剂，并旋涂所述润湿溶剂进行预湿以形成润湿层；以及在所述润湿层的表面旋涂光阻剂以形成光阻层；其中，所述润湿溶剂滴定在所述待涂面形成的液珠与所述待涂面的接触角小于90°；所述润湿溶剂的汉森溶解度参数中色散参数介于17.8～19MPa1/2，极性参数介于4.1～16.7MPa1/2，氢键参数介于5.1～7.4MPa1/2。
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