[发明专利]减反膜及其制备方法、阵列基板、显示装置在审
| 申请号： | 201810174956.1 | 申请日： | 2018-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN108363235A | 公开（公告）日： | 2018-08-03 |
| 发明（设计）人： | 张东徽;李静;马小叶;刘海峰 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1362;H01L27/12 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 袁礼君;王卫忠 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本公开提供一种减反膜及其制备方法、阵列基板、显示装置，涉及显示技术领域。所述减反膜包括薄膜本体，所述薄膜本体包括经过图案化处理而得到的光路控制结构；其中，所述减反膜设于衬底基板上，且所述衬底基板位于所述减反膜与空气之间，所述光路控制结构被配置为使入射光线在所述衬底基板与空气的界面上发生全反射。本公开可在不影响透过率的情况下降低显示装置对环境光的反射。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底基板 显示装置 薄膜本体 光路控制 阵列基板 制备 图案化处理 入射光线 环境光 全反射 透过率 反射 配置 | ||
【主权项】：
1.一种减反膜，其特征在于，包括薄膜本体，所述薄膜本体包括经过图案化处理而得到的光路控制结构；其中，所述减反膜设于衬底基板上，且所述衬底基板位于所述减反膜与空气之间，所述光路控制结构被配置为使入射光线在所述衬底基板与空气的界面上发生全反射。
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