[发明专利]一种基于二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层的制备方法有效
申请号: | 201810178541.1 | 申请日: | 2018-03-05 |
公开(公告)号: | CN108392675B | 公开(公告)日: | 2020-08-11 |
发明(设计)人: | 吴水林;冯梓洲;刘想梅;李朝阳;朱胜利;崔振铎;杨贤金 | 申请(专利权)人: | 湖北大学 |
主分类号: | A61L27/34 | 分类号: | A61L27/34;A61L27/54;A61L27/30;A61L27/28;A61L27/06;C23C18/12 |
代理公司: | 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙) 42212 | 代理人: | 胡清堂 |
地址: | 430062 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | 本发明是公开了一种基于二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层的制备方法,具体包括钛片的打磨去污,运用水热法制备具有近红外光热抗菌性的二硫化钼纳米涂层;通过滴加光敏剂IR780,使IR780的光敏性与二硫化钼光热性产生协同抗菌效果;利用多巴胺在钛表面通过自聚合成膜包裹光敏剂IR780并接枝多肽RGDC得涂层具有较好的生物相容性和成骨性,所述方法制备过程简单,成本低,制备出的涂层能极大地提高植入体在体内的抗菌性能,在短时近红外光照的情况下即可减少二次感染的损害,修复机体,减少为抗菌而反复使用抗生素带来的危害,而多肽RGDC的使用使植入体的生物相容性更好,减少感染的发生。 | ||
搜索关键词: | 一种 基于 二硫化钼 光敏剂 红外光 响应 纳米 抗菌 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层的制备方法,其特征在于,具体包括如下步骤:S1、将钛片用碳化硅砂纸逐级打磨至800目,依次在乙醇,去离子水中超声清洗,清洗好的钛片干燥密封待用;S2、分别称取5‑20mg二水钼酸钠与10‑40mg硫代乙酰胺溶于20ml去离子水中,搅拌30min,充分混匀,得到澄清透明液体,将所述澄清透明液体转移到100ml反应釜,将打磨过的钛片逐个放入反应釜中,在180‑220℃下反应20‑30h;S3、步骤S2反应完成后,取出反应釜中的钛片,用去离子水和无水乙醇反复冲洗,然后再将清洗后的钛片置于450‑500℃下退火处理1‑3h;S4、将20‑40uL的IR780溶液均匀滴加至退火处理后钛片表面,滴加完后将所述钛片真空干燥;S5、将步骤S4得到钛片于室温黑暗条件下浸入2‑4mg/mL的盐酸多巴胺溶液中反应20‑30h,将反应后的钛片取出用去离子水洗涤3‑5次后真空干燥;S6、将步骤S5得到钛片浸没在RGDC多肽溶液中于室温下放置20‑30h,用去离子水洗涤,然后真空干燥处理,即得到二硫化钼与光敏剂近红外光响应纳米抗菌涂层。
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