[发明专利]一种原子层沉积设备及方法

摘要

本发明公开了一种原子层沉积设备及方法。该设备包括反应腔室和至少两路气体传输系统，所述气体传输系统向所述反应腔室通入气体，每路所述气体传输系统包括：前驱体源、前驱体携载管路、前驱体稀释管路、前驱体吹扫管路和前驱体供应管路；所述前驱体吹扫管路可通断性连接所述前驱体携载管路和所述前驱体稀释管路；所述前驱体携载管路与所述前驱体源可通断性连接。本发明通过增加前驱体吹扫管路而增大了管路吹扫时通入前驱体管路的吹扫气体流量，可以有效地减少附着在管路内拐角或是盲端位置的残留物，降低工艺颗粒污染。

主权项

1.一种原子层沉积设备，其特征在于，包括反应腔室和至少两路气体传输系统，所述气体传输系统向所述反应腔室通入气体，每路所述气体传输系统包括：前驱体源、前驱体携载管路、前驱体稀释管路、前驱体吹扫管路和前驱体供应管路；所述前驱体吹扫管路可通断性连接所述前驱体携载管路和所述前驱体稀释管路；所述前驱体携载管路与所述前驱体源可通断性连接；所述前驱体携载管路的出口端以及所述前驱体稀释管路的出口端与所述前驱体供应管路的入口连接，所述前驱体供应管路的出口与所述反应腔室连接。