[发明专利]离子生成装置有效
| 申请号： | 201810181615.7 | 申请日： | 2018-03-06 |
| 公开（公告）号： | CN108538691B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 川口宏 | 申请（专利权）人： | 住友重机械离子科技株式会社 |
| 主分类号： | H01J27/16 | 分类号： | H01J27/16;H01J37/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种有助于提高离子照射装置的生产率的离子生成装置。离子生成装置(12)具备：电弧室(30)，内部具有等离子体生成区域；阴极(52)，朝向等离子体生成区域放出热电子；反射极(34)，隔着等离子体生成区域与阴极(52)轴向对置；以及屏蔽罩(72)，在电弧室(30)的内面与等离子体生成区域之间的位置，以部分包围等离子体生成区域的方式配置。 | ||
| 搜索关键词： | 离子 生成 装置 | ||
【主权项】：
1.一种离子生成装置，其特征在于，具备：电弧室，内部具有等离子体生成区域；阴极，朝向所述等离子体生成区域放出热电子；反射极，隔着所述等离子体生成区域与所述阴极轴向对置；以及屏蔽罩，在所述电弧室的内面与所述等离子体生成区域之间的位置，以部分包围所述等离子体生成区域的方式配置。
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