[发明专利]一种基于副瓣对消系数映射的干扰源跟踪方法在审

专利信息
申请号: 201810182190.1 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN108646238A 公开(公告)日: 2018-10-12
发明(设计)人: 耿利祥;毕井章;尹晓燕;蔡文彬;童卫勇;刘溶 申请(专利权)人: 中国船舶重工集团公司第七二四研究所
主分类号: G01S13/74 分类号: G01S13/74
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 210003 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种基于副瓣对消系数映射的干扰源跟踪方法,该跟踪方法通过利用基于副瓣对消的干扰源测向系数与干扰源运动状态的映射关系,在系数空间进行非线性变换,采用多个采样点估计干扰源状态在高斯假设下的概率密度分布函数,在对每个采样点利用卡尔曼滤波跟踪后,将多个采样点的状态估计通过映射函数映射到干扰源状态空间,最终通过映射结果和对应的权值,得到干扰源运动状态的估计,达到对干扰源跟踪的目的。
搜索关键词: 干扰源 采样点 跟踪 对消 副瓣 映射 运动状态 概率密度分布函数 非线性变换 卡尔曼滤波 系数空间 映射关系 映射函数 映射结果 状态估计 状态空间 测向 高斯
【主权项】:
1.一种基于副瓣对消系数映射的干扰源跟踪方法,其特征在于:利用基于副瓣对消的干扰源测向系数与干扰源运动状态的映射关系,在系数空间引入非线性变换,采用2nx+1个采样点估计干扰源状态在高斯假设下的概率密度分布函数,在对每个采样点利用卡尔曼滤波跟踪后,将多个采样点的状态估计通过映射函数映射到干扰源运动状态空间,由采样点的映射结果加权得到干扰源运动状态的估计。
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