[发明专利]适用于晶体生长的异形热场装置在审

专利信息
申请号: 201810184323.9 申请日: 2018-03-06
公开(公告)号: CN108441938A 公开(公告)日: 2018-08-24
发明(设计)人: 王庆国;罗平;徐军;吴锋;唐慧丽;刘军芳;赵衡煜;刘斌;薛艳艳;王东海 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: C30B11/00 分类号: C30B11/00
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 代理人: 蒋亮珠
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明涉及一种适用于晶体生长的异形热场装置,包括感应线圈(1)、保温层(2)、感应发热体(3)、原料(4)、坩埚(5)和坩埚支柱(6),所述的感应发热体(3)设置在保温层(2)内壁处,且两者的形状为异型结构。与现有技术相比,本发明大大拓宽了发热体材料的选择,简化了发热体加工,有利于生长出高质量晶体。
搜索关键词: 感应发热体 晶体生长 热场装置 保温层 异形 发热体材料 感应线圈 异型结构 坩埚支柱 发热体 内壁 坩埚 生长 加工
【主权项】:
1.一种适用于晶体生长的异形热场装置,包括感应线圈(1)、保温层(2)、感应发热体(3)、原料(4)、坩埚(5)和坩埚支柱(6),其特征在于,所述的感应发热体(3)设置在保温层(2)内壁处,且两者的形状为异型结构。
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