[发明专利]一种OLED曝光机

摘要

本发明公开了一种OLED曝光机，包括从上往下沿光路设置的曝光光源、掩膜版平台、对位显微镜、设置在所述对位显微镜周围的投影镜头及底座，所述掩膜版平台与所述对位显微镜之间设置有激光探测器，所述掩膜版位置及所述基座上方位置均设置有干涉仪；其中，所述OLED曝光机的坐标精度采用如下方法进行调整，其中，所述掩膜版平台的坐标的补偿基于中性层原理。本方法能保证每次不同时间测量同一张掩膜版得到的测量结果是一致的。

主权项

1.一种OLED曝光机，包括从上往下沿光路设置的曝光光源、掩膜版平台、对位显微镜、设置在所述对位显微镜周围的投影镜头及底座，其特征在于：所述掩膜版平台与所述对位显微镜之间设置有激光探测器，所述掩膜版平台位置及所述基座上方位置均设置有干涉仪；其中，所述OLED曝光机的坐标精度采用如下方法进行调整：一、通过所述激光探测器测绘掩膜版上表面的高度地图；二、利用步骤一中的高度地图计算补偿位置图；三、对基板平台及投影镜头进行位置坐标校准；其中，二中高度地图补偿基于中性层原理，具体原理如说明书附图图2所示，为一个弯折的板材的截面图，其中心线弯折前后的长度均为L0，弯折弧度为2α，弯折半径为R，板材厚度为T，则A点现在的坐标为Ax＝(R+T/2)Sinα，A点变性前的坐标为L0/2，A点的补偿值为Ax‑A＝(R+T/2)Sinα‑L0/2＝L0/2×(Sinα/α‑1)+T/2×Sinα。