[发明专利]使用混合模式光源来进行改进的聚焦跟踪的系统和方法有效
| 申请号： | 201810187497.0 | 申请日： | 2018-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN108572140B | 公开（公告）日： | 2020-12-22 |
| 发明（设计）人： | 达尼洛·孔代洛;西蒙·普林斯;大卫·哈吉斯;杰弗里·本迪克;克里斯多佛·西格尔 | 申请（专利权）人： | 伊鲁米那股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/01 | 分类号： | G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本申请公开了使用混合模式光源进行改进的聚焦跟踪的系统和方法。本文公开的系统和方法包括成像系统，其可包括：激光二极管光源；物镜，其被定位成将来自光源的聚焦跟踪光束引导到样品容器中的定位上并且接收从样品反射的聚焦跟踪光束；以及图像传感器，其包括多个像素定位以接收从样品容器中的定位反射的聚焦跟踪光束，其中反射聚焦跟踪光束在图像传感器上产生光斑。一些示例还可以包括激光二极管光源，该激光二极管光源可以在高于对于在放大式自发辐射(“ASE”)模式下的操作的功率水平但低于对于单模操作的功率水平的功率水平下操作。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 混合 模式 光源 进行 改进 聚焦 跟踪 系统 方法 | ||
【主权项】：
1.一种成像系统，包括：激光二极管光源；物镜，其被定位成将来自所述光源的聚焦跟踪光束引导到样品容器中的定位上并且接收从所述样品反射的所述聚焦跟踪光束；以及图像传感器，其包括多个像素定位以接收从所述样品容器中的定位反射的聚焦跟踪光束，其中反射聚焦跟踪光束在所述图像传感器上产生光斑；其中，所述激光二极管光源在高于对于在放大式自发辐射(“ASE”)模式下的操作的功率水平但低于对于单模操作的功率水平的功率水平下操作。
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