[发明专利]一种遮蔽框及化学气相沉积装置有效
申请号: | 201810188422.4 | 申请日: | 2018-03-07 |
公开(公告)号: | CN108374161B | 公开(公告)日: | 2020-05-01 |
发明(设计)人: | 徐荣桢;陶灵芝 | 申请(专利权)人: | 昆山龙腾光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/04 | 分类号: | C23C16/04;C23C16/458 |
代理公司: | 上海波拓知识产权代理有限公司 31264 | 代理人: | 蔡光仟 |
地址: | 215301 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种遮蔽框,该遮蔽框可与一承载台结合,以遮蔽位于承载台上基板的周围区域。此遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框,在遮蔽外框远离承载台的一面凸设有至少一限位装置,遮蔽内框通过该限位装置套设于遮蔽外框上,使遮蔽内框相对于遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。本发明还公开一种化学气相沉积装置,包括上述遮蔽框。通过上述结构,实现遮蔽框与基板的贴合效果好。 | ||
搜索关键词: | 一种 遮蔽 化学 沉积 装置 | ||
【主权项】:
1.一种遮蔽框,可与一承载台结合,以遮蔽位于承载台上基板的周围区域,所述遮蔽框包括遮蔽外框和遮蔽内框,其特征在于,所述遮蔽外框远离所述承载台的一面凸设有至少一个限位装置,所述遮蔽内框通过所述限位装置套设于所述遮蔽外框上,使所述遮蔽内框相对于所述遮蔽外框水平方向固定但竖直方向活动。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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