[发明专利]反应性溅射装置和反应性溅射方法在审
申请号: | 201810192417.0 | 申请日: | 2018-03-09 |
公开(公告)号: | CN108570647A | 公开(公告)日: | 2018-09-25 |
发明(设计)人: | 广木珠代 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 宋岩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 公开了反应性溅射装置和反应性溅射方法。反应溅射装置通过采用靶材和反应性气体以化合物、转移和金属模式中的任何一种执行沉积,其中反应性溅射装置包括惰性气体馈送单元、反应性气体馈送单元、向靶材供给电力的电力供给单元、检测在向靶材供给电力时生成的等离子体发射的检测单元,以及控制单元,该控制单元调节反应性气体的流率以将一波长处的等离子体发射强度或从多个波长处的等离子体发射强度计算的值维持在指定值,并且其中控制单元控制等离子体发射强度或其计算值的指定值,使得转移模式中的阴极电压V与化合物模式中的阴极电压Vc的比V/Vc接近于预设值,这两个阴极电压是在沉积期间检测的。 | ||
搜索关键词: | 等离子体发射 反应性溅射装置 反应性气体 阴极电压 靶材 反应性溅射 供给电力 馈送单元 波长 沉积 检测 电力供给单元 惰性气体 反应溅射 金属模式 强度计算 转移模式 流率 预设 | ||
【主权项】:
1.一种反应性溅射装置,其特征在于,通过采用靶材和反应性气体以化合物模式、转移模式和金属模式中的任一种模式执行沉积,反应性溅射装置包括:被布置为引入惰性气体的馈送单元,被布置为引入反应性气体的馈送单元,被布置为向靶材供给电力的电力供给单元,被布置为检测在向靶材供给电力时生成的等离子体发射的检测单元,以及控制单元,该控制单元被配置为调节反应性气体的流率以将预定波长处的等离子体发射强度或从多个预定波长处的等离子体发射强度计算的值维持在指定值,其中,控制单元控制用于等离子体发射强度或从等离子体发射强度计算的值的指定值,使得转移模式中的阴极电压V与化合物模式中的阴极电压Vc的比率V/Vc接近于预设值,这两个阴极电压是从电力供给单元供给并在沉积期间检测的。
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