[发明专利]偏振无关的三维集成双层光栅耦合器在审
| 申请号： | 201810192595.3 | 申请日： | 2018-03-09 |
| 公开（公告）号： | CN108279461A | 公开（公告）日： | 2018-07-13 |
| 发明（设计）人： | 张赞允;朱华;刘宏伟;陈力颖;李鸿强 | 申请（专利权）人： | 天津工业大学 |
| 主分类号： | G02B6/124 | 分类号： | G02B6/124;G02B6/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300387 *** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 偏振无关的三维集成双层光栅耦合器，包括两个单向的光栅耦合器，由顶层光栅和底层光栅分别位于上下两个波导层中，两层光栅的方向相互正交组成，顶层光栅作为与单模光纤相连的光耦合接口，底层光栅位于顶层光栅的垂直下方，作为底层波导层的光耦合接口；一个光学隔离层，隔离层位于顶层光栅和底层光栅之间，作为顶层光栅的下包层同时也是底层光栅的上包层；一个埋氧层，埋氧层位于底层光栅和硅衬底之间，作为底层光栅的下包层；一个双介质包层结构，由相较顶层波导材料折射率较低的两层材料组成，位于顶层光栅的上方。本器件采用了三维光集成技术实现了偏振无关的光耦合输入和输出的功能。 | ||
| 搜索关键词： | 光栅 顶层 偏振无关 光耦合接口 三维集成 双层光栅 埋氧层 下包层 耦合器 光学隔离层 光栅耦合器 波导材料 垂直下方 单模光纤 底层波导 集成技术 两层材料 波导层 隔离层 光耦合 硅衬底 上包层 双介质 折射率 包层 两层 正交 三维 输出 | ||
【主权项】：
1.偏振无关的三维集成双层光栅耦合器，包括两个一维的光栅耦合器：由顶层光栅和底层光栅分别位于上下两个波导层中，两层光栅的方向相互正交组成。顶层光栅作为与单模光纤相连的光耦合接口，底层光栅位于顶层光栅的垂直下方，作为底层波导层的光耦合接口；一个隔离层：隔离层位于顶层光栅和底层光栅之间，作为顶层光栅的下包层同时也是底层光栅的上包层；一个埋氧层：埋氧层位于底层光栅和硅衬底之间，作为底层光栅的下包层；一个双介质包层结构：由相较顶层波导材料折射率较低的两层材料组成，位于顶层光栅的上方，用于抑制顶层光栅对入射光的向上反射。
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