[发明专利]一种高电子利用率低能电离装置、质谱系统及方法有效
申请号: | 201810194678.6 | 申请日: | 2018-03-09 |
公开(公告)号: | CN108493091B | 公开(公告)日: | 2020-03-24 |
发明(设计)人: | 黄泽建;刘广才;方向;江游;龚晓云;翟睿;谢洁;刘梅英 | 申请(专利权)人: | 中国计量科学研究院 |
主分类号: | H01J49/14 | 分类号: | H01J49/14;H01J49/42;G01N27/64 |
代理公司: | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人: | 王莹;吴欢燕 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明实施例提供了一种高电子利用率低能电离装置、质谱系统及方法,包括:电离室、电子入射栅网及低能电场组件;所述电离室,位于所述电子入射栅网内侧,用于容纳待测物分子与电子,所述电子轰击所述待测物分子进行电离;所述电子入射栅网,安装在所述电离室与所述低能电场组件之间,用于提高电子利用率;所述低能电场组件,安装在所述电子入射栅网外侧,用于生成低能电场。一种采用所述电离装置的质谱系统,以及采用了所述质谱系统的质谱方法。本发明可以有效减少待测物分子产生的碎片离子并提高电子利用率,从而在气体成分的检测中不需要再借助色谱。 | ||
搜索关键词: | 一种 电子 利用率 低能 电离 装置 谱系 方法 | ||
【主权项】:
1.一种高电子利用率低能电离装置,其特征在于,包括:电离室、电子入射栅网及低能电场组件;所述电离室,位于所述电子入射栅网内侧,用于容纳待测物分子与电子,所述电子轰击所述待测物分子进行电离;所述电子入射栅网,安装在所述电离室与所述低能电场组件之间,用于提高电子利用率;所述低能电场组件,安装在所述电子入射栅网外侧,用于生成低能电场与发射电子。
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