[发明专利]一种高电子利用率低能电离装置、质谱系统及方法有效

专利信息
申请号: 201810194678.6 申请日: 2018-03-09
公开(公告)号: CN108493091B 公开(公告)日: 2020-03-24
发明(设计)人: 黄泽建;刘广才;方向;江游;龚晓云;翟睿;谢洁;刘梅英 申请(专利权)人: 中国计量科学研究院
主分类号: H01J49/14 分类号: H01J49/14;H01J49/42;G01N27/64
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹;吴欢燕
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明实施例提供了一种高电子利用率低能电离装置、质谱系统及方法,包括:电离室、电子入射栅网及低能电场组件;所述电离室,位于所述电子入射栅网内侧,用于容纳待测物分子与电子,所述电子轰击所述待测物分子进行电离;所述电子入射栅网,安装在所述电离室与所述低能电场组件之间,用于提高电子利用率;所述低能电场组件,安装在所述电子入射栅网外侧,用于生成低能电场。一种采用所述电离装置的质谱系统,以及采用了所述质谱系统的质谱方法。本发明可以有效减少待测物分子产生的碎片离子并提高电子利用率,从而在气体成分的检测中不需要再借助色谱。
搜索关键词: 一种 电子 利用率 低能 电离 装置 谱系 方法
【主权项】:
1.一种高电子利用率低能电离装置,其特征在于,包括:电离室、电子入射栅网及低能电场组件;所述电离室,位于所述电子入射栅网内侧,用于容纳待测物分子与电子,所述电子轰击所述待测物分子进行电离;所述电子入射栅网,安装在所述电离室与所述低能电场组件之间,用于提高电子利用率;所述低能电场组件,安装在所述电子入射栅网外侧,用于生成低能电场与发射电子。
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