[发明专利]一种异质结晶体硅双面太阳电池结构在审
申请号: | 201810198937.2 | 申请日: | 2018-03-12 |
公开(公告)号: | CN108336159A | 公开(公告)日: | 2018-07-27 |
发明(设计)人: | 岳之浩;周浪;黄海宾;袁吉仁;高超 | 申请(专利权)人: | 南昌大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/0352;H01L31/078 |
代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 施秀瑾 |
地址: | 330031 江西省*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 一种异质结晶体硅双面太阳电池结构,以n型晶体硅片作为基底,发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:发射极‑导电区域由基底向外依次由本征非晶硅钝化层、重掺杂p型非晶硅层、金属栅线I构成,钝化‑进光区域由钝化减反射层I构成;背电场面分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:钝化‑进光区域由钝化减反射层II;背电场‑导电区域由基底向外依次为本征非晶硅钝化层II、重掺杂n型非晶硅、金属栅线II。本发明在保持晶体硅太阳电池双面进光的特性前提下,同时获得高开路电压和高短路电流的特性,最大程度的提高晶体硅太阳电池的发电能力。 | ||
搜索关键词: | 钝化 导电区域 光区域 背电场 基底 晶体硅太阳电池 结晶体 双面太阳电池 本征非晶硅 减反射层 金属栅线 钝化层 发射极 重掺杂 异质 短路电流 发电能力 发射极面 开路电压 | ||
【主权项】:
1.一种异质结晶体硅双面太阳电池结构,其特征是以n型晶体硅片(5)作为基底,其发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:发射极‑导电区域由基底向外依次由本征非晶硅钝化层(3)、重掺杂p型非晶硅层(2)、金属栅线I(1)构成,钝化‑进光区域由钝化减反射层I(4)构成,这两个区域交叉分布且不重叠;其背电场面分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:钝化‑进光区域由钝化减反射层II(6);背电场‑导电区域由基底向外依次为本征非晶硅钝化层II(7)、重掺杂n型非晶硅(8)、金属栅线II(9),这两个区域交叉分布且不重叠。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南昌大学,未经南昌大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810198937.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的