[发明专利]一种钝化进光层的晶体硅双面太阳电池结构在审

专利信息
申请号: 201810198963.5 申请日: 2018-03-12
公开(公告)号: CN108336160A 公开(公告)日: 2018-07-27
发明(设计)人: 高超;周浪;黄海宾;袁吉仁;岳之浩 申请(专利权)人: 南昌大学
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0352;H01L31/068
代理公司: 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 代理人: 施秀瑾
地址: 330031 江西省*** 国省代码: 江西;36
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 一种钝化进光层的晶体硅双面太阳电池结构,以n型晶体硅片作为基底,其发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:前者由基底向外依次由本征非晶硅钝化层、重掺杂p型非晶硅层、金属栅线I构成,后者由基底向外依次由TiO2I、钝化减反射层I构成;背电场面分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:前者由基底向外依次为重掺杂晶体硅层或TiO2II、钝化减反射层II;后者由基底向外依次为本征非晶硅钝化层II、重掺杂n型非晶硅、金属栅线Ⅱ。本发明在保持晶体硅太阳电池双面进光的特性前提下,同时获得高开路电压和高短路电流的特性,最大程度的提高晶体硅太阳电池的发电能力。
搜索关键词: 钝化 基底 晶体硅太阳电池 双面太阳电池 本征非晶硅 导电区域 减反射层 金属栅线 背电场 钝化层 光区域 晶体硅 重掺杂 光层 短路电流 发电能力 发射极面 晶体硅层 开路电压 发射极 掺杂
【主权项】:
1.一种钝化进光层的晶体硅双面太阳电池结构,其特征是以n型晶体硅片(6)作为基底,其发射极面分为发射极‑导电区域和钝化‑进光区域:发射极‑导电区域由基底向外依次由本征非晶硅钝化层(3)、重掺杂p型非晶硅层(2)、金属栅线I(1)构成,钝化‑进光区域由基底向外依次由TiO2I(5)、钝化减反射层I(4)构成,这两个区域交叉分布且不重叠;其背电场面结构分为钝化‑进光区域和背电场‑导电区域:钝化‑进光区域由基底向外依次为重掺杂晶体硅层或TiO2II(7)、钝化减反射层II(8);背电场‑导电区域由基底向外依次为本征非晶硅钝化层II(9)、重掺杂n型非晶硅(10)、金属栅线Ⅱ(11),这两个区域交叉分布且不重叠。
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