[发明专利]反作用力产生构件和键开关装置有效
申请号: | 201810202347.2 | 申请日: | 2018-03-13 |
公开(公告)号: | CN108695096B | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
发明(设计)人: | 奥谷进之辅 | 申请(专利权)人: | 富士通电子零件有限公司 |
主分类号: | H01H13/14 | 分类号: | H01H13/14;H01H13/85 |
代理公司: | 11038 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王其文<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种反作用力产生构件(15),包括:第一穹顶状部(15b),所述第一穹顶状部根据操作构件(10)的按压而将反作用力施加至操作构件(10);和第二穹顶状部(15d),所述第二穹顶状部包括布置在第一穹顶状部(15b)内的半球形的碗状部分(15e),以及从碗状部分(15e)的中心向下突出并按压布置在操作构件(10)下方的开关(14d)的突出部(15f)。 | ||
搜索关键词: | 穹顶状 操作构件 反作用力 按压 产生构件 碗状 键开关装置 半球形 突出部 施加 | ||
【主权项】:
1.一种反作用力产生构件(15),其特征在于,所述反作用力产生构件包括:/n第一穹顶状部(15b),所述第一穹顶状部根据操作构件(10)的按压而将反作用力施加至操作构件(10);和/n第二穹顶状部(15d),所述第二穹顶状部包括布置在第一穹顶状部(15b)内的半球形的碗状部分(15e),以及从碗状部分(15e)的中心向下突出并按压布置在操作构件(10)下方的开关(14d)的突出部(15f),其中/n所述第一穹顶状部(15b)具有第一载荷位移特征,在所述第一载荷位移特征中,操作构件(10)的按压载荷根据操作构件(10)的按压而增大直到所述第一穹顶状部(15b)执行屈曲变形,操作构件(10)的按压载荷达到峰值载荷,并且操作构件(10)的按压载荷在所述屈曲变形之后减小,/n所述第二穹顶状部(15d)具有第二载荷位移特征,在所述第二载荷位移特征中,操作构件(10)的按压载荷根据操作构件(10)的按压量而增大,并且/n当在第一穹顶状部(15b)的第一载荷位移特征和第二穹顶状部(15d)的第二载荷位移特征的总和中操作构件(10)的按压载荷减小时并且在操作构件(10)的按压载荷达到作为峰值载荷之后的最小载荷的底载荷之前,所述突出部(15f)打开所述开关(14d),/n其中,所述第二载荷位移特征的载荷增大速率比其中按压载荷根据操作构件(10)的按压量而线性地增大的第三载荷位移特征的载荷增大速率小。/n
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