[发明专利]基板保持装置以及腔室装置有效
申请号: | 201810205964.8 | 申请日: | 2018-03-13 |
公开(公告)号: | CN108573909B | 公开(公告)日: | 2022-11-22 |
发明(设计)人: | 裵莹宰;金济男;彭盛焕 | 申请(专利权)人: | 亚威科股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/687 | 分类号: | H01L21/687;H01J37/32 |
代理公司: | 北京青松知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 郑青松 |
地址: | 韩国大*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及基板保持装置以及腔室装置,其中,所述基板保持装置包括:保持部,由磁性体构成;电永磁,根据是否施加电源,改变磁场流动更强的位置;以及夹盘,设置有所述电永磁;其中,所述保持部利用根据对所述电永磁未施加电源而产生作用的引力支撑所述基板,以使基板保持在所述夹盘。 | ||
搜索关键词: | 保持 装置 以及 | ||
【主权项】:
1.一种基板保持装置,其特征在于,包括:基座,由磁性体构成;夹盘,由非磁性体构成;第一极片,配置在所述基座与所述夹盘的一面之间,并且由磁性体构成;第二极片,在从所述第一极片分隔的位置中配置在所述基座与所述夹盘的一面之间,并且由磁性体构成;永久磁铁,设置在所述第一极片与所述第二极片之间,以分别接触于所述第一极片与所述第二极片;线圈,设置在所述第一极片;保持部,由磁性体构成;以及诱导部,设置在所述基座;其中,对于所述诱导部由非磁性体构成,若对所述线圈施加电源,则所述基座侧形成比所述保持部测更强的磁场流动;若对所述线圈未施加电源,则所述保持部侧形成比所述基座侧更强的磁场流动,以对所述保持部产生引力作用;所述保持部利用根据对所述线圈未施加电源而产生作用的引力支撑所述基板,以使基板保持在所述夹盘。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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