[发明专利]一种基于DNA纳米结构的金属图案及其制备方法和应用在审
申请号: | 201810210058.7 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN108467010A | 公开(公告)日: | 2018-08-31 |
发明(设计)人: | 李娜;丁宝全;徐雪卉;尚颖旭;韩梓弘;刘清 | 申请(专利权)人: | 国家纳米科学中心 |
主分类号: | B82B3/00 | 分类号: | B82B3/00;B82B1/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 巩克栋 |
地址: | 100190 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种基于DNA纳米结构的金属图案及其制备方法和应用,所述方法包括:制备硫化修饰的DNA纳米结构,在硫化修饰位点进行金属的原位生长。本发明的方法利用DNA纳米结构的纳米级可寻址性和结构多样性,在DNA纳米结构上进行硫化修饰,引入含硫基团,基于金属与含硫基团的强亲和性,实现了多种金属在DNA纳米结构上的精确定向原位生长,形成了零维、一维、二维和三维的具有高分辨率的金属图案,在纳米电子器件和纳米光电子器件中具有广泛应用,方法实用性强,应用范围广,反应条件温和,操作简单快速,重复性好,产率高达100%。 | ||
搜索关键词: | 纳米结构 金属图案 硫化 修饰 制备方法和应用 含硫基团 原位生长 金属 纳米光电子器件 纳米电子器件 结构多样性 应用范围广 反应条件 高分辨率 强亲和性 可寻址 纳米级 产率 位点 制备 三维 引入 应用 | ||
【主权项】:
1.一种基于DNA纳米结构制备金属图案的方法,其特征在于,所述方法包括:制备硫化修饰的DNA纳米结构,在硫化修饰位点进行金属的原位生长。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国家纳米科学中心,未经国家纳米科学中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810210058.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。