[发明专利]一种半导体集成圆片制造设备在审
申请号: | 201810210297.2 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN108447771A | 公开(公告)日: | 2018-08-24 |
发明(设计)人: | 罗强;赵国华;杨艳 | 申请(专利权)人: | 泉州台商投资区铭源机械设备有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/67 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 362000 福建省泉*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种半导体集成圆片制造设备,包括架体以及设置在所述架体底部四个角位置处的支柱,所述架体中设置有打孔滑动槽和废料收集槽,所述废料收集槽位于所述打孔滑动槽的正下方,且所述废料收集槽顶端壁的四个角位置处设置有与所述打孔滑动槽相通的冲压通孔,所述打孔滑动槽底部的左右两端对称设置有与所述架体外相通的出料槽和进料槽,本发明整体结构简单,设计安全合理,制作生产成本低廉,通过四个打孔冲压头对一块集成圆片进行冲压打孔加工作业,一次性完成打孔,有效增加了集成圆片的打孔效率,增加了集成圆片的生产加工速度,且通过按压板的按压操作,使得集成圆片打孔的精度准确,稳定性高,减少了集成圆片打孔时产生的残次品,适合推广使用。 | ||
搜索关键词: | 打孔 圆片 滑动槽 架体 废料收集槽 半导体集成 制造设备 角位置 相通 一次性完成 按压操作 冲压通孔 打孔效率 两端对称 设计安全 生产加工 按压板 残次品 冲压头 出料槽 顶端壁 进料槽 冲压 生产成本 制作 加工 | ||
【主权项】:
1.一种半导体集成圆片制造设备,包括架体以及设置在所述架体底部四个角位置处的支柱,其特征在于:所述架体中设置有打孔滑动槽和废料收集槽,所述废料收集槽位于所述打孔滑动槽的正下方,且所述废料收集槽顶端壁的四个角位置处设置有与所述打孔滑动槽相通的冲压通孔,所述打孔滑动槽底部的左右两端对称设置有与所述架体外相通的出料槽和进料槽,所述打孔滑动槽底端壁上设置有下软性垫,所述打孔滑动槽中设置有可上下滑动的打孔滑动块,所述打孔滑动块底端面的四个角位置处设置有与所述冲压通孔相对的打孔冲压头,所述打孔滑动槽左右两端壁上对称设置有限位滑槽,所述打孔滑动块左右两端面上对称设置有与所述限位滑槽滑动配合连接的限位滑块,所述限位滑槽中设置有用以将所述限位滑块向上顶压的上顶压弹簧,所述打孔滑动块中设置有第一滑槽,所述打孔滑动块底端面中间设置有与所述第一滑槽相通的第二滑槽,所述第一滑槽中设置有可上下滑动的第一滑板,所述第二滑槽中设置有可上下滑动且与所述第一滑板底端面固定连接的第二滑板,所述第二滑板底部固定连接有按压板,所述按压板底端面上设置有上软性垫,所述第一滑板顶端面上设置有弹簧容槽,所述弹簧容槽中设置有用以将所述第一滑板向下顶压的下顶压弹簧,所述下顶压弹簧上端与所述第一滑槽顶端壁固定连接,所述下顶压弹簧下端与所述弹簧容槽底端壁固定连接,所述打孔滑动槽顶端壁中设置有用以驱动所述打孔滑动块上下滑动以便于所述打孔冲压头对集成圆片进行打孔的打孔驱动装置,所述打孔驱动装置上设置有消音减震装置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于泉州台商投资区铭源机械设备有限公司,未经泉州台商投资区铭源机械设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810210297.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:二氧化硅薄膜的制备方法
- 下一篇:一种COOLMOS用硅外延片的制造方法
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造