[发明专利]一种钕铟锌氧化物薄膜晶体管及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810213140.5 申请日: 2018-03-15
公开(公告)号: CN108336135B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 姚日晖;郑泽科;宁洪龙;章红科;李晓庆;张啸尘;邓宇熹;周尚雄;袁炜健;彭俊彪 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L29/49 分类号: H01L29/49;H01L21/336;H01L29/786
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 罗啸秋
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于显示器件技术领域,公开了一种钕铟锌氧化物薄膜晶体管及其制备方法。所述薄膜晶体管由基板、金属栅极、栅极绝缘层、Nd‑IZO半导体有源层、氧化物绝缘体钝化层和金属源漏电极构成。本发明在IZO半导体靶材中引入一定比例的Nd元素掺杂,通过室温溅射工艺沉积Nd‑IZO高载流子浓度有源层薄膜,结合超薄Al2O3钝化层对电场下的载流子运输进行控制,可以优化器件的电学性能,以获得高性能的薄膜晶体管。
搜索关键词: 一种 钕铟锌 氧化物 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种钕铟锌氧化物薄膜晶体管,其特征在于:所述薄膜晶体管的有源层为Nd‑IZO。
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