[发明专利]一种III-V族硅基低折射率缝隙结构DBR激光器及集成方法有效
申请号: | 201810213367.X | 申请日: | 2018-03-15 |
公开(公告)号: | CN110277731B | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
发明(设计)人: | 黄卫平;曲莫;李俣;冯佩 | 申请(专利权)人: | 山东大学 |
主分类号: | H01S5/125 | 分类号: | H01S5/125;H01S5/22 |
代理公司: | 济南金迪知识产权代理有限公司 37219 | 代理人: | 王楠 |
地址: | 250199 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明涉及一种III‑V族硅基低折射率缝隙结构DBR激光器及集成方法,属于激光器技术领域,激光发光装置从上而下包括有源层、硅层、二氧化硅衬底,有源层包括矩形端和梯形端,梯形端的长边与矩形端相连,矩形端和梯形端一体制造;硅层为矩形条,硅层一端设有开口通槽,开口通槽的底部设有凸脊,凸脊的水平投影为梯形,凸脊的长边与开口通槽的底部连接。光正向传输时从有源层耦合至硅层,引入低折射率双斜劈结构,配合有源层尾部为近锥形的梯形结构,实现有源层和硅层的相互耦合,整个耦合区长度小于5μm,最小可达到3μm,理论耦合效率大于99%,尺寸远小于同类激光器结构,可实现器件小型化。 | ||
搜索关键词: | 一种 iii 族硅基低 折射率 缝隙 结构 dbr 激光器 集成 方法 | ||
【主权项】:
1.一种III‑V族硅基低折射率缝隙结构DBR激光器,其特征在于,从上而下包括有源层、硅层、二氧化硅衬底;有源层包括矩形端和梯形端,梯形端的长边与矩形端相连,矩形端和梯形端一体制造;硅层为矩形条,硅层一端设有开口通槽,开口通槽的底部设有凸脊,凸脊的水平投影为梯形,凸脊的长边与开口通槽的底部连接。
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