[发明专利]有机基团改性有机硅树脂及其制造方法以及化妆料

摘要

本发明提供在化妆料中配合的情况下可制作使用感良好、为高内水相、历时稳定性良好的乳化物的有机基团改性有机硅树脂及其制造方法以及含有有机基团改性有机硅树脂的化妆料。有机基团改性有机硅树脂，其由下述平均组成式(1)表示，25℃下为固体状或液状。(R13SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R33SiO1/2)c(R12SiO2/2)d(R1SiO3/2)e(SiO4/2)f(1)(a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0＜b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0＜f≤1,000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数。)。

主权项

1.有机基团改性有机硅树脂，其由下述平均组成式(1)表示，25℃下为固体状或液状，【化15】(R13SiO1/2)a(R23SiO1/2)b(R33SiO1/2)c(R12SiO)2/2)d(R1SiO3/2)e(SiO4/2)f    (1)式中，R1为相同或不同的碳数1～30的烷基、芳基、芳烷基、或者它们的卤素取代基、氨基取代基或羧基取代基，R2为相同或不同的由下述通式(2)表示的聚氧亚烷基、或R1，至少1个为由上述通式(2)表示的聚氧亚烷基，R3为相同或不同的由下述通式(3)、通式(4)、通式(5)或通式(6)表示的基团、或R1，至少1个为由上述通式(3)、通式(4)、通式(5)或通式(6)表示的基团，a、b、c、d、e、f为满足0≤a≤400、0＜b≤200、0≤c≤400、0≤d≤320、0≤e≤320、0＜f≤1,000、0.5≤(a+b+c)/f≤1.5的数，【化16】‑(CH2)2‑C1H21‑O‑(C2H4O)g(C3H6O)hR4  (2)式中，R4为未取代或取代的1价烃基或氢原子，1、g和h为满足0≤1≤15、0≤g≤200、0≤h≤200、8≤g+h≤200的整数，【化17】‑(CH2)2‑CmH2m‑(SiOR12)i‑SiR13    (3)‑(CH2)2‑CmH2m‑SiR1j1‑(OSiR13)3‑j1   (4)‑(CH2)2‑CmH2m‑SiR1j1‑(OSiR1j2(OSiR13)3‑j2)3‑j1     (5)‑(CH2)2‑CmH2m‑SiR1j1‑(OSiR1j2(OSiR1j3(OSiR13)3‑j3)3‑j2)3‑j1   (6)式中，R1为相同或不同的碳数1～30的烷基、芳基、芳烷基、或者它们的卤素取代基、氨基取代基或羧基取代基，m、i和j1～j3为满足0≤m≤5、0≤i≤500、0≤j1≤2、0≤j2≤2、0≤j3≤2的整数。