[发明专利]均压负载装置和回火炉

摘要

本发明提供的均压负载装置和回火炉，涉及工艺处理技术领域。该均压负载装置包括炉本体和外框架，炉本体置于外框架内。外框架包括横梁、底座、支撑柱和负载平台。支撑柱的一端与底座固定连接，支撑柱的另一端与横梁固定连接。负载平台与横梁固定连接。炉本体上设有定位柱和连接柱。定位柱的一端与炉本体连接，定位柱的另一端与支撑柱连接，以固定支撑柱的位置。连接柱的一端与横梁连接，连接柱的另一端与炉本体连接。该均压负载装置在进行回火处理工件表面形成均匀组织的同时，能将高压负载合理的分布在独立的外框架上，大大降低了炉体本身物理结构的负载，使用寿命长。

主权项

一种均压负载装置，其特征在于，所述均压负载装置包括炉本体和外框架，所述炉本体置于所述外框架内；所述外框架包括横梁、底座、支撑柱和负载平台；所述支撑柱的一端与所述底座固定连接，所述支撑柱的另一端与所述横梁固定连接；所述负载平台与所述横梁固定连接；所述炉本体上设有定位柱和连接柱；所述定位柱的一端与所述炉本体连接，所述定位柱的另一端与所述支撑柱连接，以固定所述支撑柱的位置；所述连接柱的一端与所述横梁连接，所述连接柱的另一端与所述炉本体连接。