[发明专利]一种用于抗主瓣干扰的降维子阵比相跟踪测角方法有效
| 申请号： | 201810220052.8 | 申请日： | 2018-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN108490428B | 公开（公告）日： | 2022-01-07 |
| 发明（设计）人： | 陶海红;代品品;刘日华;孙超军;孙春阳;马晓 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G01S13/68 | 分类号： | G01S13/68 |
| 代理公司： | 西安睿通知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 61218 | 代理人： | 惠文轩 |
| 地址： | 710071*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种用于抗主瓣干扰的降维子阵比相跟踪测角方法，其主要思路为：确定平面阵，所述平面阵检测范围内存在目标，将平面阵划分为L |
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| 搜索关键词： | 一种 用于 抗主瓣 干扰 降维子阵 跟踪 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于抗主瓣干扰的降维子阵比相跟踪测角方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，确定平面阵，所述平面阵检测范围内存在目标，且所述平面阵包括Q个阵元，将平面阵划分为L1×L2维子阵矩阵，所述L1×L2维子阵矩阵包括L1×L2个子阵；其中，Q、L1和L2分别为大于0的正整数；步骤2，对所述L1×L2维子阵矩阵进行划分，得到top子阵、bottom子阵、left子阵和right子阵；步骤3，分别计算top子阵最优权和left子阵最优权，进而分别计算得到top子阵输出结果、bottom子阵输出结果、left子阵输出结果和right子阵输出结果；步骤4，根据top子阵输出结果、bottom子阵输出结果、left子阵输出结果和right子阵输出结果，计算得到top子阵和bottom子阵之间的相位差和left子阵和right子阵之间的相位差；步骤5，根据top子阵和bottom子阵之间的相位差和left子阵和right子阵之间的相位差，计算得到目标俯仰角和目标方位角，所述目标俯仰角和目标方位角为一种用于抗主瓣干扰的降维子阵比相跟踪测角结果。
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