[发明专利]一种K3 有效
| 申请号： | 201810223035.X | 申请日： | 2018-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN108328654B | 公开（公告）日： | 2020-04-03 |
| 发明（设计）人： | 杨晓光;李春月;韩伟;李梅;王伟;杨大伟 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工程大学 |
| 主分类号： | C01G25/04 | 分类号： | C01G25/04;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江省哈尔滨市南岗区*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： |
本发明提供的是一种K |
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| 搜索关键词： | 一种 base sub | ||
【主权项】：
1.一种K3ZrF7纳米晶的制备方法，其特征是：(1)按照(30～50)：(40～55)的质量份数比，将LiCl和KCl加入到坩埚中混合并搅拌均匀，放入马弗炉中干燥24h后在500℃下预电解除水得到混合熔盐；(2)将与混合熔盐质量比1/100～1/14的K2ZrF6加入所述坩埚中并放入加热炉中加热至650～800℃，生成沉淀，然后倒出上层熔盐，得到沉淀产物；(3)进行冷却、洗涤、干燥。
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