[发明专利]夹层式熔融石英偏振无关1×2分束光栅在审
| 申请号： | 201810225655.7 | 申请日： | 2018-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN108761598A | 公开（公告）日： | 2018-11-06 |
| 发明（设计）人： | 周常河;鲁云开 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B27/28 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于1550纳米波段的夹层式熔融石英透射1×2偏振无关分束光，由矩形高密度深刻蚀光栅上加一层均匀熔融石英材料一体构成，该矩形光栅占空比为0.647～0.66、刻蚀深度为1.816～1.866微米、光栅周期为1.5微米，对TE和TM偏振光均可同时实现近乎理想的高效率1×2分束。该夹层式1×2偏振无关分束光栅可视为等效的法布里波罗(F‑P)腔，能有效抑制反射损失，在C+L波段和宽角度范围内使用。本发明光栅部分被夹在中间，可免于机械损伤和灰尘等，稳定性好。 | ||
| 搜索关键词： | 夹层式 偏振无关 熔融石英 高密度深刻蚀光栅 偏振无关分束光栅 熔融石英材料 光栅 反射损失 分束光栅 光栅周期 机械损伤 矩形光栅 纳米波段 有效抑制 法布里 分束光 高效率 占空比 透射 分束 刻蚀 | ||
【主权项】：
1.一种用于1550纳米波段的夹层式熔融石英透射1×2偏振无关分束光栅，包括熔融石英基片(2)和深刻蚀在该熔融石英基片(2)上的矩形光栅(4)，其特征在于，所述的矩形光栅(4)上还设有一层厚度均匀的熔融石英材料(3)，所述的矩形光栅的占空比为0.647～0.66，刻蚀深度为1.816～1.866微米，矩形光栅的周期为1.5微米。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院上海光学精密机械研究所，未经中国科学院上海光学精密机械研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810225655.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
