[发明专利]一种双发射二氧化硅荧光探针在检测Cu2+有效

专利信息
申请号: 201810226356.5 申请日: 2018-03-19
公开(公告)号: CN108414489B 公开(公告)日: 2021-02-05
发明(设计)人: 卢小泉;张彩中;牛琦霞;李学梅;张雪红;武亚丽;陕多亮 申请(专利权)人: 西北师范大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 北京中恒高博知识产权代理有限公司 11249 代理人: 钟国
地址: 730070 甘肃*** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明公开了一种双发射二氧化硅荧光探针在检测Cu2+中的应用,所述双发射二氧化硅荧光探针包括二氧化硅包裹的卟啉,以及附在二氧化硅外表面的碳量子点。该双发射二氧化硅荧光探针对Cu2+具有良好的选择性。利用Cu2+对碳量子点的荧光猝灭作用,将其作为响应信号,而卟啉被二氧化硅所包裹,不受Cu2+的影响,作为稳定的参考信号,从而实现Cu2+的荧光比率法检测,可有效避免荧光探针浓度及环境所带来的误差。
搜索关键词: 一种 发射 二氧化硅 荧光 探针 检测 cu base sup
【主权项】:
1.一种双发射二氧化硅荧光探针在检测Cu2+中的应用,所述双发射二氧化硅荧光探针包括二氧化硅包裹的卟啉,以及附在二氧化硅外表面的碳量子点。
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