[发明专利]一种多层结构及其制备方法和应用在审
申请号: | 201810228419.0 | 申请日: | 2018-03-20 |
公开(公告)号: | CN110305348A | 公开(公告)日: | 2019-10-08 |
发明(设计)人: | 曹超伟;刘瑞扩 | 申请(专利权)人: | 致晶科技(北京)有限公司 |
主分类号: | C08J7/04 | 分类号: | C08J7/04 |
代理公司: | 北京元周律知识产权代理有限公司 11540 | 代理人: | 王惠 |
地址: | 100084 北京市海淀区*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请公开了一种多层结构,所述多层结构至少包括:钙钛矿量子点‑聚合物层和过渡层;其中,所述钙钛矿量子点‑聚合物层的至少一个表面的至少一部分被过渡层包覆。本申请公开的多层结构具有水氧阻隔性好、光学性质稳定以及制备工艺简单的优势,在光转换器件,如液晶显示背光源、紫外探测器、太阳能电池中应用前景广阔。 | ||
搜索关键词: | 多层结构 聚合物层 钙钛矿 过渡层 量子点 液晶显示背光源 制备方法和应用 应用前景广阔 光转换器件 水氧阻隔性 太阳能电池 紫外探测器 光学性质 制备工艺 包覆 申请 | ||
【主权项】:
1.一种多层结构,其特征在于,所述多层结构至少包括:钙钛矿量子点‑聚合物层和过渡层;其中,所述钙钛矿量子点‑聚合物层的至少一个表面的至少一部分被过渡层包覆。
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