[发明专利]激光冲击制备纳米碳材料的方法有效
| 申请号： | 201810235985.4 | 申请日： | 2018-03-21 |
| 公开（公告）号： | CN109207997B | 公开（公告）日： | 2020-09-08 |
| 发明（设计）人： | 邹世坤;吴俊峰 | 申请（专利权）人： | 中国航空制造技术研究院 |
| 主分类号： | C23C26/00 | 分类号： | C23C26/00;C21D10/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100024 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种激光冲击制备纳米碳材料的方法，包括以下步骤，1）在待强化的材料基体表面上直接设置芳烃高分子粉末或者其与粘结剂的混合物作为吸收层；2）在吸收层上设置约束层；3）脉冲激光对吸收层进行激光冲击强化；4）材料冷却后，去除残留物即得强化后的材料基体。利用激光冲击强化环境下的高温高压特性，将芳烃高分子粉末作为吸收层，在约束环境下增加激光冲击强化功率密度，将芳烃高分子粉末裂解为石墨稀、纳米金刚石等结构，实现吸收层向涂层的转变并附着在靶材上，形成特定功能的涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 激光 冲击 制备 纳米 材料 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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