[发明专利]一种四相双逾渗电磁屏蔽材料及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810236261.1 申请日: 2018-03-21
公开(公告)号: CN108384177B 公开(公告)日: 2020-06-23
发明(设计)人: 廖益均;吴晓莉 申请(专利权)人: 成都工业学院
主分类号: C08L55/02 分类号: C08L55/02;C08L77/06;C08L23/06;C08L91/06;C08L35/06;C08K13/06;C08K9/10;C08K7/24;C08K3/04;H05K9/00;C09K5/14
代理公司: 四川力久律师事务所 51221 代理人: 刘雪莲;陈明龙
地址: 610031*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明公开了一种电磁屏蔽材料,它包括重量份数比的以下成分制成:ABS 35~45份、PA66 45~55份、镀银碳纤维2~18份、EG 2~18份、增塑剂0.5~1份、增溶剂2~4份、抗氧剂0.5~1份。本发明电磁屏蔽材料突破传统的熔融共混工艺,设计制备双逾渗结构的工艺参数、加工顺序、挤出工艺,极大地降低CF的逾渗阀值。此方法生产效率高,操作简单,且能极大地降低材料成本,利于大批量工业化生产。
搜索关键词: 一种 四相双逾渗 电磁 屏蔽 材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种电磁屏蔽材料,它包括重量份数比的以下成分制成:ABS 35~45份、PA66 45~55份、镀银碳纤维2~18份、EG 2~18份、增塑剂0.5~1份、增溶剂2~4份、抗氧剂0.5~1份。
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