[发明专利]一种可重茬的黄瓜温室大棚种植方法

摘要

本发明涉及农业种植技术领域，具体涉及一种可重茬的黄瓜温室大棚种植方法。包括如下步骤：（1）表层基质配制，（2）土壤调理剂制备，（3）整畦，（4）定植，（5）管理，（6）采收。其中，表层基质中含有：腐殖土、园土、米糠、复合氨基酸、甲壳素、三元复合肥，表层基质用于在种植畦表面进行覆土；土壤调理剂中包括：粘土、蛭石、熟石灰、硼酸、磷酸二氢钾、硫酸亚铁、硫酸镁、钼酸铵和水，经过造粒后施加在重茬的种植畦中进行土壤改性。利用该方法可以在大棚内进行黄瓜重茬种植，可以克服重茬种植导致的病害增多和产量降低的问题，提高黄瓜种植过程的土地利用率。

主权项

1.一种可重茬的黄瓜温室大棚种植方法，其特征在于：包括如下步骤：（1）表层基质配制：按照质量份数，准备腐殖土50‑70份，园土30‑40份，米糠10‑15份，复合氨基酸3‑6份，甲壳素2‑5份，三元复合肥11‑15份，将各成分在混料机中搅拌均匀，然后喷洒占混合物总重8%的水进行润湿，润湿后自然堆放10‑15d；（2）土壤调理剂制备：按照质量份数准备原料：粘土25‑30份，蛭石30‑40份，熟石灰15‑20份，硼酸4‑6份，磷酸二氢钾2‑3份，硫酸亚铁1‑3份，硫酸镁0.3‑0.7份，钼酸铵0.1‑0.2份，水35‑40份，将上述原材料投入到混料造粒机中进行混合搅拌并造粒，然后将制造的颗粒烘干，得到所需土壤调理剂；（3）整畦：将大棚的棚膜取下，然后向畦面喷施土壤杀虫剂，喷施后6‑8d将土壤调理剂均匀播撒在畦面上，播散后对种植畦进行翻耕，翻耕后向漆面喷施除菌剂并自然曝晒3‑4d，然后将种植畦开挖成宽度1.5‑2m，高度10‑15cm的栽培畦，并将表层基质覆于畦面之上，表层基质的覆土厚度为5‑6cm，整畦完成后将大棚膜扣上，然后将表层基质喷水润湿后闷棚6‑7d，等待移植种苗；（4）定植：将栽培畦上按照30x40cm的株行距进行开穴，再将水肥灌施管铺设在畦面上，向畦面覆盖覆地膜，将覆地膜的栽培穴位置进行开孔，同时将具有6‑7片真叶的黄瓜苗定植于栽培穴内，移植完成后浇定根水，种苗缓苗成功后及时浇水追肥，并进入正常种植管理阶段；（5）管理：瓜苗生长期、花期和坐果期及时对种苗进行科学的水肥管理，并根据棚内种苗生长状态喷施除虫剂和植物生长激素；（6）采收：黄瓜成熟后可以进行多轮采收，每次采收后及时向瓜苗追施水肥，并对瓜苗进行及时修剪，除去徒长枝和采收后的坐果枝。