[发明专利]一种结构光投影模组和深度相机有效
| 申请号： | 201810244996.9 | 申请日： | 2018-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN108594454B | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 许星 | 申请（专利权）人： | 深圳奥比中光科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/42 | 分类号： | G02B27/42 |
| 代理公司： | 44223 深圳新创友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 程丹 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种结构光投影模组及深度相机，该结构光投影模组包括：光源阵列，包括以二维图案形式排列的多个子光源，用于发射与所述二维图案相对应的阵列光束；透镜，接收并汇聚所述阵列光束；衍射光学元件，接收经所述透镜汇聚后出射的所述阵列光束，并投射出结构光斑点图案化光束；其中，所述结构光斑点图案包括至少两个次结构光斑点图案通过交错叠加而成；所述次结构光斑点图案由所述多个子光源中的部分子光源产生的多个子斑点图案平铺排列而成，所述子斑点图案由单个所述子光源经衍射光学元件衍射后形成的不同衍射级数的斑点组成。该方案在保证结构光图案分布均匀的基础上，提高结构光斑点图案的密度分布，同时还具有非常高的不相关性。 | ||
| 搜索关键词： | 光斑 点图案 结构光投影 阵列光束 模组 透镜 衍射光学元件 斑点图案 二维图案 深度相机 次结构 光源 结构光图案 汇聚 光源产生 光源阵列 交错叠加 密度分布 平铺排列 衍射级数 斑点 子光源 投射 出射 衍射 发射 保证 | ||
【主权项】：
1.一种结构光投影模组，其特征在于，包括：/n光源阵列，包括以二维图案形式排列的多个子光源，用于发射与所述二维图案相对应的阵列光束；/n透镜，接收并汇聚所述阵列光束；/n衍射光学元件，接收经所述透镜汇聚后出射的所述阵列光束，并投射出结构光斑点图案化光束；/n其中，所述结构光斑点图案包括至少两个次结构光斑点图案通过交错叠加而成；所述次结构光斑点图案由所述多个子光源中的部分子光源产生的多个子斑点图案平铺排列而成，所述子斑点图案由单个所述子光源经衍射光学元件衍射后形成的不同衍射级数的斑点组成，所述子斑点图案的边缘与基线方向不一致，且相互耦合。/n
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